什么是有机溶剂型清洗剂

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(-__-)b 嘉智信诺申请一种溶剂型易清洁有机硅改性聚合物及其制备方法和应用...金融界 2024 年 8 月 11 日消息,天眼查知识产权信息显示,安徽嘉智信诺化工股份有限公司申请一项名为“一种溶剂型易清洁有机硅改性聚合物及其制备方法和应用“,公开号 CN202410566398.9,申请日期为 2024 年 5 月。专利摘要显示,本发明公开了一种溶剂型易清洁有机硅改性聚合物...

●△● 信维通信申请应变片的金属基材专利,制作的应变片镀铜层结合力可达 5B应变片的金属基材的电镀铜的方法包括使用有机溶剂对应变片的金属基材进行超声清洁处理,应变片的金属基材包括铜镍合金、镍铬合金、镍钼合金、铁铬铝合金;使用碱性溶液对超声清洁处理后的应变片的金属基材进行化学脱脂处理;使用酸性溶液对化学脱脂处理后的应变片的金属基材...

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江化微申请半导体氧化硅深孔蚀刻清洗剂及蚀刻方法专利,优良的蚀刻...本发明公开了一种半导体氧化硅深孔的蚀刻清洗剂,包括以下组分:0.5%～5%的氟化氢、6%～20%的氟化铵、30%～60%的与水互溶的极性有机溶剂、5%～20%的铝离子络合剂、0.3%～10%的铝保护剂、10%～35%的水以及10～10000ppm的表面活性剂。该半导体氧化硅深孔的蚀刻...

节前大扫除,这些清洁剂和消毒剂别混用春节前,不少家庭都会进行大扫除,不过,在大扫除的过程中大家可得留心了,使用清洁剂时如果用量不对、清洁不当,可能会直接影响你的生命健康安全。近日,龙岗区某公司生产车间员工使用有机溶剂(二甲苯分析纯)对油压机台面油污进行深度清洁,作业全程没佩戴防护口罩、手套。其间,作...

ˇωˇ 鼎龙股份申请化学机械抛光后清洗相关专利,改善铜的 CMP 过程后清洗...湖北鼎龙控股股份有限公司申请一项名为“化学机械抛光后清洗组合物及半导体器件基板的清洗方法“,公开号 CN202410523991.5,申请日期为 2024 年 4 月。专利摘要显示,本发明涉及化学机械抛光后清洗组合物,包含:pH 调节剂、季铵碱、润湿剂、有机氮氧螯合剂、有机溶剂;所述有...

╯﹏╰ 颖泰生物申请解毒喹的清洁化制备方法专利,能够使废水量减少、生产...在第一有机溶剂、碱和第一催化剂存在下,使5‑氯‑8‑羟基喹啉和氯乙酸甲酯进行第一接触反应,得到5‑氯‑8‑羟基喹啉乙酸甲酯的步骤;2)在第二有机溶剂和第二催化剂存在下,使步骤1)得到的5‑氯‑8‑羟基喹啉乙酸甲酯和2‑庚醇进行第二接触反应,得到解毒喹的步骤;其中,步骤2...

上海新阳取得聚酰亚胺清洗液专利,清洗能力强、腐蚀速率低上海新阳半导体材料股份有限公司取得一项名为“一种聚酰亚胺清洗液“,授权公告号CN116218611B,申请日期为2021年12月。专利摘要显示,本发明公开了一种聚酰亚胺清洗液。本发明的清洗液的原料包括下列质量分数的组分:30%‑80%有机溶剂、0.001%‑0.01%还原型谷胱甘肽、...

上海新阳获得发明专利授权:“一种聚酰亚胺清洗液”专利名为“一种聚酰亚胺清洗液”,专利申请号为CN202111481386.9,授权日为2024年6月21日。专利摘要:本发明公开了一种聚酰亚胺清洗液。本发明的清洗液的原料包括下列质量分数的组分:30%‑80%有机溶剂、0.001%‑0.01%还原型谷胱甘肽、0.001%‑0.25%半胱氨酸、1%‑5...

╯▽╰ 隆基绿能申请硅片无水清洗专利,实现了对硅片的高效清洗隆基绿能科技股份有限公司申请一项名为“一种硅片的无水清洗方法”,公开号CN117393417A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示,本申请实施例提供了一种硅片的无水清洗方法,其中,方法包括:将待清洗的硅片依次经两亲性有机溶剂及极性有机溶剂清洗;在经极性有机溶剂清洗后,将...

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宝钢股份申请测量冷轧铁粉颗粒度的方法专利,能精确测量冷轧铁粉...用有机溶剂对冷轧铁粉表面轧制润滑油进行初步溶解去除;2、使用高浓度碱液进一步清洗去除润滑油;3、将处理后的铁粉放入去离子水进行漂洗,去除碱液残留;4、将步骤3得到的铁粉放入乙醇溶液中浸泡,留待检测取样;5、将高纯去离子水和化学纯乙醇按质量百分比3:2～1:3配制检测液...

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